ＳＡＣＣユニット（汚染物質除去装置）

クリーンルーム用機器の専門メーカーである（株）忍足研究所を通じ、当社が開発・実用化したフィルター内蔵の汚染物質除去装置「SACCユニット」です。

SACC：SuperClean & Airborne MolecularContaminationControl

概要

SACCユニットは、SACCフィルターとファンを内蔵したケミカル汚染物質の除去装置です。大きさは65cm角、高さ1.5mとコンパクトで、標準タイプの場合、SACCフィルターを最大10枚内蔵できます。クリーンルーム内のリターンシャフトや床下の僅かなスペースを利用して「置くだけ」でケミカル汚染物質を除去できるので、空調機やダクト等を整備する必要はありません採用にあたっては、目標とするケミカルクリーン性能に応じて、設置場所や台数、内蔵するSACCフィルターの枚数などを最適化するエンジニアリングが必要です。

ケミカル汚染物質

半導体工場では、シリコン製の基板（シリコンウェハ）にナノレベルの微細な回路を刻み込み記憶媒体を生産しています。ケミカル汚染物質がシリコンウェハの表面に接触したり処理プロセス中に混入すると製品不良や性能劣化を引き起こします。このため、半導体工場の生産ライン（クリーンルーム）ではケミカル汚染物質の濃度を厳しく管理する必要があり、各所に汚染物質の除去や発生防止等のケミカル汚染対策が施されています。