ＳＡＣＣ®フィルター（高性能ケミカルフィルター）
クリーンルーム用機器の専門メーカーである（株）忍足研究所を通じ、当社が開発・実用化したフィルター内蔵の汚染物質除去装置「SACC※ユニット」です。
SACC：SuperClean & Airborne MolecularContaminationControl
概要
活性炭を基材とするSACCフィルターは、60cm角、厚さ3cmの製品で、空調機の中に設置され、クリーンルームに取り入れる外気やクリーンルーム内の空気から、アンモニアやNOx、SOx、VOCなどのケミカル汚染物質を効率よく吸着・除去します。当社のエンジニアリングにより、ナノレベルの極微量のケミカル汚染物質まで除去した超クリーン環境（ナノクリーン：当社商標）を実現でき、かつ耐用年数が一般的なケミカルフィルターの約2倍と長いことや様々なケミカル汚染物質に対して高い除去性能を有することから、半導体やフラットパネルディスプレイをはじめとする先端エレクトロニクス分野の事業者から高く評価されています。
ケミカル汚染物質
半導体工場では、シリコン製の基板（シリコンウェハ）にナノレベルの微細な回路を刻み込み記憶媒体を生産しています。ケミカル汚染物質がシリコンウェハの表面に接触したり処理プロセス中に混入すると製品不良や性能劣化を引き起こします。このため、半導体工場の生産ライン（クリーンルーム）ではケミカル汚染物質の濃度を厳しく管理する必要があり、各所に汚染物質の除去や発生防止等のケミカル汚染対策が施されています。
