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キオクシア横浜テクノロジーキャンパス Flagship棟

キオクシアの研究・技術開発の拠点となるフラッグシップ棟である。東芝から分社化後初の新築建屋ということもあり、企業を象徴するような建築を目指した。外装はキオクシアの主要製品であるセルを積層させて製造されるフラッシュメモリをデザインモチーフとして、３色の外装パネルをランダムに配置し、躍動感あるデザインとした。執務フロア中央には上部にトップライトをもつ４層の吹抜を設け、シンボリックな大階段を配した。これにより明るく、フロアを跨いでの従業員の交流を促す共用空間を実現した。吹抜周りにはフロア毎のテーマカラーを基調としたタイルカーペットを外装デザインに倣いランダムに配置している。フラッグシップ棟として広く企業ブランドを発信し、発展の拠点となることを期待している。

竣工年
2023
主用途
事務所・研究所
延床面積
42,652.91m2（Flagship棟）400.89m2（手荷物検査場）
構造／規模
S造一部RC造／地上６階・塔屋１階
受賞
  • BELS認証（ZEB Ready）取得
ゲストエリアデザイン
フィールドフォー・デザインオフィス

山本 大地

髙倉 正幸

岩田 成美

木津 佑太